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勻膠顯影機

產(chǎn)品簡介

勻膠顯影機 型號:SC100-DE
是一種既可用于精密勻膠操作,又可用于半導體顯影和清洗的臺面式設備,它可以實現(xiàn)價值百萬美元設備(track)的上才可能達到穩(wěn)定性和均勻性。

產(chǎn)品型號:SC100-DE
更新時間:2024-02-09
廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
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勻膠顯影機 型號:SC100-DE
  SC100-DE勻膠顯影機是一種既可用于精密勻膠操作,又可用于半導體顯影和清洗的臺面式設備,它可以實現(xiàn)價值百萬美元設備(track)的上才可能達到穩(wěn)定性和均勻性。

  不銹鋼外殼比塑料或者烤漆金屬更耐久和美觀;工業(yè)級別200瓦伺服電機系統(tǒng),采用與track設備相同設計和程序,使您的工藝更具有實際應用意義;同類產(chǎn)品中**的大達到50000RPM/S的旋轉(zhuǎn)加速度,確保勻膠和顯影的穩(wěn)定性和的可重復性。
主要性能指標:
主機機箱采用不銹鋼材料(抗化學腐蝕易清潔) 
旋涂程序:多可存100組程序,每組100步,每個步驟可精確到0.1秒 
轉(zhuǎn)動速度:0-10,000rpm(更速可選) 
旋涂加速度:0-50,000rpm/sec(空載) 
馬達旋涂轉(zhuǎn)速穩(wěn)定性能誤差 < ±1rpm 
轉(zhuǎn)速調(diào)節(jié)精度<1rpm,重復性< 1rpm 
工藝時間設定: 0-3,000 sec/step,時間設置精度:0.1sec 
支持wafer尺寸1cm-200mm(8“圓晶) 
標準配置兩路噴液系統(tǒng)(顯影液和去離子水)



產(chǎn)品特性優(yōu)點:
主機在SC100-SE勻膠機上升級,增加耐腐蝕分子材料防濺式罩蓋

全程序編輯功能,更方便的智能化操作,更好的顯影/清洗效果 
可實現(xiàn)多**立四路噴液用于顯影/清洗工作,或進行氮氣吹干 
控制器可實現(xiàn)程序動控制噴液或進行手動操作,使用更加方便

顯影系統(tǒng)可進行噴霧式、柱流式多種選擇,視要求進行配置 
提供客戶定制化的顯影系統(tǒng)配置和工裝設計 
可靠性和重復性,轉(zhuǎn)速精度和更轉(zhuǎn)速可選 
可添加去邊膠和背膠清洗功能


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